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森朗儀器
氫氟酸合成裝置參數和性能
森朗儀器
 
氫氟酸合成裝置系統(tǒng)操作溫度范圍為-50~XXX℃,操作壓力 -0.1~XMPa,,設計溫度范圍-60~XXX℃,,設計壓力XMPa;體系分為溶解系統(tǒng),、結晶系統(tǒng),、溶劑回收三部分。該體系應能實現(xiàn)連續(xù)操作和間斷操作兩種工況,。連續(xù)操作時能穩(wěn)定進料,、出料。升溫過程,,可進行多段程序升溫控制,,控溫精度0.1℃。溶解系統(tǒng)設計反應釜,,容積設計為XXmL,,操作溫度為-20~XX℃,操作壓力為-0.1~XMPa,,材質為31...

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  • 氫氟酸合成裝置參數和性能
 
  • 氫氟酸合成裝置參數和性能-產品詳情

氫氟酸合成裝置系統(tǒng)操作溫度范圍為-50~XXX℃,,操作壓力 -0.1~XMPa,設計溫度范圍-60~XXX℃,,設計壓力≥XMPa,;體系分為溶解系統(tǒng)、結晶系統(tǒng),、溶劑回收三部分,。該體系應能實現(xiàn)連續(xù)操作和間斷操作兩種工況。連續(xù)操作時能穩(wěn)定進料、出料,。升溫過程,,可進行多段程序升溫控制,控溫精度±0.1℃,。溶解系統(tǒng)設計反應釜,,容積設計為XXmL,操作溫度為-20~XX℃,,操作壓力為-0.1~XMPa,,材質為316L不銹鋼,反應器開口至少X個,,分別為攪拌口,,固體進料口(Xmm以上),液體進料口(Xmm),,濁度儀探頭接口,,進氣口,排氣口,,測壓口,,測溫口。反應器底部設計有下出料口與過濾器1相連,,過濾器設計工況與溶解釜相同,,容積為XXml,過濾精度X微米,,方便拆卸,,濾芯可拆卸替換,過濾死體積小,,配堵塞卸料口和氣體反吹清洗口,。固體加料口加工應方便固體加料罐快速安裝和拆卸。

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